Cu(II)Oxid hochreines Metallsalz

Niedrigere Betriebskosten für die Cu-Ergänzung möglich

Die hochreinen Umicore-Kupferoxid-Metalloxidpulver werden in Übereinstimmung mit den anspruchsvollen Anforderungen der modernen advanced packaging Industrie entwickelt, hergestellt und qualitätsgeprüft. In Kombination mit dem ancosys DMR®-Konzept (Direct Metal Replenishment) ist eine Reinraumnutzung möglich, die niedrigere Betriebskosten für die Cu-Ergänzung zusammen mit einer Leistungssteigerung des Elektrolyten durch höhere Cu-Konzentrationen ermöglicht.

Vorteile

• Keine VMS erforderlich
  
  • H2SO4-Konzentration bleibt konstant. Stabiles Elektrolytvolumen, regelmäßige Ergänzung und Verwerfung von Elektrolyt nicht notwendig
  • Mehrere Sorten (4N, Packaging)
  • Vollständige Rückverfolgbarkeit, nur eine Quelle für Cu
• Kosteneffizienz
  
  • Reduzierung der Anlagenstillstandszeit, Unterstützung wartungsfreier Galvanisierzellen
  • 50% geringere Kosten pro kg Cu im Vergleich zu VMS
  • 15% höhere Geschwindigkeit durch höheren Cu-Gehalt (60g/l i/o 50g/l)

Anwendungen

• Halbleitertechnik