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Cu(II)Oxid hochreines Metallsalz

Cu(II)Oxid hochreines Metallsalz

Niedrigere Betriebskosten für die Cu-Ergänzung möglich

Die hochreinen Umicore-Kupferoxid-Metalloxidpulver werden in Übereinstimmung mit den anspruchsvollen Anforderungen der modernen advanced packaging Industrie entwickelt, hergestellt und qualitätsgeprüft. In Kombination mit dem ancosys DMR®-Konzept (Direct Metal Replenishment) ist eine Reinraumnutzung möglich, die niedrigere Betriebskosten für die Cu-Ergänzung zusammen mit einer Leistungssteigerung des Elektrolyten durch höhere Cu-Konzentrationen ermöglicht.

Vorteile

  • Keine VMS erforderlich
    • H2SO4-Konzentration bleibt konstant. Stabiles Elektrolytvolumen, regelmäßige Ergänzung und Verwerfung von Elektrolyt nicht notwendig
    • Mehrere Sorten (4N, Packaging)
    • Vollständige Rückverfolgbarkeit, nur eine Quelle für Cu
  • Kosteneffizienz
    • Reduzierung der Anlagenstillstandszeit, Unterstützung wartungsfreier Galvanisierzellen
    • 50% geringere Kosten pro kg Cu im Vergleich zu VMS
    • 15% höhere Geschwindigkeit durch höheren Cu-Gehalt (60g/l i/o 50g/l)

Anwendungen

  • Halbleitertechnik

Downloads

  • Produktblatt_Cu(II)Oxid_hochreines_Metallsalz_DE.pdf

Ihr Ansprechpartner

Andrea Grau

Andrea Grau

Leiterin Vertrieb Europa
T: +49 7171 607 229
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