Direct Immersion Gold (DIG) auch für Bonding bei Raumtemperatur
Die Problematik von Gold bei Bonding Verfahren ist weitgehend bekannt: In der Regel ist eine Mindesttemperatur des Substrates von 120 °C notwendig um eine gute Verbindung zu erzielen. Diese hohen Temperaturen wirken sich negativ auf die in der Baugruppe verwendeten Materialien aus. Daher wird vor allem in Bereichen mit komplexen Produkten Raumtemperaturbonden im Ball/Wedge- oder Wedge/Wedge-Prozess angestrebt.
Anwendungsbericht zeigt das Potential unseres DIG Prozesses
DIG steht für Direct Immersion Gold und bedeutet, dass eine Goldschicht direkt auf das Kupfer der Leiterplatte abgeschieden wird. Neben der Kompatibilität mit Aluminium- und Golddraht und das nickelfreie System sprechen insbesondere die guten Ergebnisse bei Raumtemperatur für den Einsatz unseres DIG Prozesses.
Für weitere Details lesen Sie dazu den ausführlichen Anwendungsbericht von Bond IQ, in welchem unsere DIG Schicht bei unterschiedlichen Temperaturen analysiert wird.
Weitere Fachberichte zum Herunterladen
In unserem Fachberichte Bereich finden Sie weitere Beiträge von internationalen Fachmagazinen und -büchern zu unseren Produkten. Gerne laden wir Sie ein hier nach für Sie relevanten Artikeln zu stöbern.
Weiterführende Informationen
Sie möchten Informationen oder ein unverbindliches Angebot zu unserem DIG Prozess? Andreas Groß freut sich über Ihre Kontaktaufnahme:
Andreas Groß
Bereichsleiter PCB Anwendungen
E-Mail: andreas.gross@eu.umicore.com
Tel.: +49 7231 4405 516